“适用于UHPLC-MS（for UHPLC-MS）”是什么意思
这些溶剂/试剂是专为配合质谱（MS）检测的超高效液相色谱（UHPLC；< 2µm填料、高压力）而生产并通过相应QC测试的。其具有极低的非挥发残留、ppb级金属杂质、极低的UV/MS本底以及亚微米级微粒控制，因此即使在痕量水平也能保持色谱柱和离子源的清洁与灵敏。
随着LC色谱柱粒径缩小（< 2µm）且系统压力升高（UHPLC系统可运行至约1,000 bar（≈15,000psi）），溶剂洁净度与颗粒控制的重要性显著提升；与此同时，MS离子源对低离子/有机污染的要求愈发严格。各供应商据此推出了面向LC-MS且与UHPLC兼容的专用等级，并在纯化、质量控制（QC）和包装环节增加了工序。由于没有统一的外部标准，“LC-MS/UHPLC-MS等级”由供应商自行界定——请务必查阅批次COA（分析证书）。
UHPLC–MS工作流程对污染极其敏感。微量的非挥发残留、碱金属（Na⁺/K⁺）、增塑剂或微粒都可能抑制电离、提高化学噪声、产生加合物，甚至堵塞滤片/色谱柱（frits/columns）。标注“适用于UHPLC–MS”的产品通过以下措施针对性降低这些风险：(a)更严格的杂质限度，(b)亚微米级末端过滤/洁净包装，以及(c)与方法相关的适用性测试（梯度PDA〔二极管阵列〕、LC–MS本底）。
“适用于UHPLC–MS”相较普通等级的独特之处：
- 双重调校：同时满足:(1)UHPLC的机械要求（小粒径/高压力）与 (2) MS的化学要求（有利电离、超低离子/有机本底）。
- 结果收益：更高的灵敏度、更洁净的谱图、更长的色谱柱/离子源寿命，以及在痕量水平下更佳的基线重现性。
在COA上常见的QC/实验室测试项目
具体限度因供应商与溶剂而异，但常见测试包括：
- MS本底（ESI±）——TIC（总离子流）/背景离子低→痕量水平谱图更干净
- 痕量金属（ICP-MS）——ppb级Na⁺/K⁺/过渡金属→更少加合物、更高灵敏度
- 蒸发残留——mg/L级低残留→降低离子源结垢
- UV/梯度基线（200–400nm）——PDA基线平滑→确保UHPLC梯度稳定
- 水分（KF）、含量（assay）、酸度/碱度——组成控制
- 微粒与末端过滤（0.1–0.2µm）——保护< 2µm色谱柱
- 包装/内衬——低析出瓶盖、惰性气体覆盖。
阿拉丁具体产品示例
- 乙腈（Acetonitrile）——适用于UHPLC，适合MS：低黏度、低背压；已进行MS本底筛查；末端亚微米过滤。小分子ESI⁺方法的优选默认溶剂。
- 甲酸铵（Ammonium formate）——适用于LC–MS：适用于正/负两种离子模式的挥发性缓冲盐。
- 氨水（Ammonia solution，25%水溶液）——适用于LC–MS：负离子模式/高pH方法用的挥发性碱；注意色谱柱pH限度与材料相容性。
- 水（Water）——适用于UHPLC，适合MS：低TIC；< 0.2µm过滤；通过梯度测试。稳定MS基线的关键组成。
- 甲醇（Methanol）——适用于UHPLC，适合MS：与ACN选择性不同；严格微粒控制。适用于酚类化合物及部分ESI⁻工作流。
与相关等级的比较
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等级
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主要目的
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典型新增测试/特性
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适用场景
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HPLC grade
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低UV/荧光本底，通用色谱
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UV截止/透过率，低残留
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采用UV/FLD的HPLC（无MS）；日常/常规工作
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HPLC Gradient grade / UHPLC (UV)
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在梯度与小粒径色谱柱上获得平滑基线
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梯度基线测试；精细过滤
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使用光学检测器的快速梯度HPLC/UHPLC
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LC-MS grade
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面向质谱的灵敏度与洁净度
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MS本底测试；ppb级金属；低残留
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在标准HPLC或UHPLC上进行LC-MS(/MS)
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UHPLC-MS grade
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同时满足UHPLC的机械需求与MS的化学需求
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在LC-MS测试基础上，增加更严的颗粒/梯度规范与UHPLC适用性
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< 2µm柱 + MS检测的最佳选择
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选型要点与注意事项
1. 检测器决定等级：若终端检测为MS，请选择LC-MS或UHPLC-MS等级。HPLC级可用于仅UV的方法，但在MS上可能提高噪声或产生加合物。
2. 使用挥发性添加剂：优选甲酸/乙酸、甲酸铵/乙酸铵；在LC-MS中避免使用磷酸盐/硼酸盐/Tris——它们会抬高本底、抑制信号并污染离子源。
3. 谨慎使用TFA：TFA在仅UV的工作流程中有助于峰形，但会抑制电喷雾电离（ESI）信号；若MS灵敏度重要，请改用FA（甲酸）或采取缓解策略。
4. 系统整体匹配：LC-MS级水与有机相同等重要；管路、瓶盖与样品瓶应选用低析出规格（配PTFE衬垫）以减少浸出物。。
5. 不要指望“混合提升”：不同等级混合后，洁净度只会等同于最差的那一组分。
6. 储存与操作：保持严密密封，尽量减小头空间，并使用洁净的玻璃流路；自配混合溶剂须0.2 
预过滤，必要时脱气。
常见问答（FAQs）
问：我能在普通HPLC上使用UHPLC–MS 等级溶剂吗？
答：可以——该等级向下兼容。这不会损害系统；但若仅做UV检测，你可能为并不需要的性能多付成本。
问：“LC–MS级”在各品牌间是否有统一标准？
答：没有全球统一规范；各供应商会自定合格标准（如金属项目、MS本底、残留限度等）。请以所用批次的COA为准。
问：为何用“MS级”溶剂做UHPLC–UV仍会出现基线起伏/鬼峰？
答：“MS级”更强调电离洁净度；若要获得梯度UV的平滑基线，请确认该批次通过梯度/PDA测试，或改用专门的梯度/UHPLC等级溶剂。
问：做肽类LC–MS 应选哪种酸？
答：优先尝试甲酸（FA）或甲酸铵。TFA可改善峰形，但会抑制ESI灵敏度；仅在必要时、并配合缓解策略（如柱后补加/“去抑制”处理）使用。
问：金属杂质真的重要吗？
答：重要——ppb级碱金属/过渡金属会导致加合物并降低灵敏度；请选择具有ppb级ICP-MS金属指标且MS本底干净的批次。
为什么在UHPLC-MS工作中选择阿拉丁
阿拉丁面向UHPLC–MS的溶剂/添加剂除通过MS本底与ppb级金属的QC外，还完成梯度/UHPLC适用性核验。配套的批次COA与帮助中心指引，方便按方法选择合适等级，并对合规或已验证的流程形成完备的文档化佐证。
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